旋转磁铁溅射装置

摘要

本发明提供一种旋转磁铁溅射装置。该旋转磁铁溅射装置具备等离子体遮蔽构件和被接地了的外壁，在等离子体遮蔽构件与外壁之间，具有串联谐振电路及并联谐振电路。串联谐振电路仅在谐振频率下具有非常低的阻抗，并联谐振电路仅在谐振频率下具有非常高的阻抗。通过制成此种结构，基板RF电力与等离子体遮蔽构件之间的阻抗就变得非常高，可以抑制在被处理基板(10)与等离子体遮蔽构件之间的等离子体的产生。另外，由于靶子与地之间设有串联谐振电路，因此仅在被处理基板穿过靶子下方的区域有效地供给RF电力，产生自偏压。

主权项

一种旋转磁铁溅射装置，其特征在于，具有：载放被处理基板的被处理基板设置台、按照与该被处理基板相面对的方式设置靶子的机构、设置在相对于靶子所放置的部分与所述被处理基板设置台相反的一侧的磁铁，通过利用该磁铁在靶子正面形成磁场而将等离子体封闭在靶子正面，所述磁铁包括：将多个板磁铁连续地设于柱状旋转轴上的旋转磁铁组、在旋转磁铁组的周边与靶子面平行地设置并且由沿与靶子面垂直的方向磁化的磁铁或未被预先磁化的强磁性体构成的固定外周体，通过使所述旋转磁铁组与所述柱状旋转轴一起旋转，使所述靶子正面的磁场图案随时间变动，该旋转磁铁溅射装置具备遮蔽构件，该遮蔽构件按照覆盖所述靶子的端部的方式与所述靶子分离，并且设置在相对于所述旋转磁铁组与所述靶子相反的一侧，在所述遮蔽构件中设有沿与所述柱状旋转轴的轴向相同的方向延伸并使所述靶子面对所述被处理基板而开口的狭缝，并且通过对所述靶子施加DC电力、具有第一频率的RF电力、以及具有第二频率的RF电力中的至少一种电力，在靶子正面激发出等离子体，此外，在所述被处理基板设置台中设有RF施加电极，在溅射过程中，对所述RF施加电极施加基板RF电力，从而可以使载放于所述被处理基板设置台上的被处理基板产生自偏压。