发明名称 COMPOSITION FOR FORMING A COATING AND COATING APPLIED WITH THE COMPOSITION
摘要 The present invention relates to a composition for forming a coating and to a coating applied with the composition, and more particularly, to a composition for forming a coating and to a coating applied with the composition, which significantly increase in coating hardness to ultimately enhance the durability of materials such as substrates on which the coating is applied, wherein the composition consists of: an oligomer obtained by simultaneously or sequentially polymerizing a 3-functional silane represented by the general formula R1SiX3, a 3-functional silane represented by the general formula R2SiX'3, and a 4-functional silane represented by the general formula SiX”4 (where R1 is either an alkyl group or a phenyl group, R2 is a hydrocarbon group which includes one or more unsaturated bonds, and X, X', and X” are mutually identical or different hydrolyzable groups); a radical initiator; and a solvent which dissolves the oligomer and the radical initiator, to significantly improve the hardness of the coating by means of a Si-(C-)nSi structure (where n is a natural number from 2 to 4), particularly by enabling heating during the polymerization of a siloxane oligomer as a starting material to produce up to 4 C bonds in an Si-C-Si bond. La présente invention concerne une composition pour former un revêtement et un revêtement appliqué avec la composition, et plus particulièrement, une composition pour former un revêtement et un revêtement sur lequel est appliquée la composition, ce qui augmente significativement la dureté du revêtement pour améliorer au final la durabilité de matériaux tels que des substrats sur lesquels le revêtement est appliqué, la composition étant constituée: d'un oligomère obtenu par polymérisation simultanée ou séquentielle d'un silane trifonctionnel représenté par la formule générale R1SiX3, un silane trifonctionnel représenté par la formule générale R2SiX'3, et un silane quadrifonctionnel représenté par la formule générale SiX”4 (où R1 est un groupe alkyle ou un groupe phényle, R2 est un groupe hydrocarbure qui comprend une ou plusieurs liaisons insaturées, et X, X', et X” sont des groupes hydrolysables mutuellement identiques ou différents); d'un amorceur radicalaire; et d'un solvant qui dissout l'oligomère et l'amorceur radicalaire, afin d'améliorer significativement la dureté du revêtement au moyen d'une structure Si-(C-)nSi (où n est un entier naturel compris entre 2 et 4), notamment par activation du chauffage pendant la polymérisation d'un oligomère de siloxane en tant que matériau de départ pour produire jusqu'à 4 liaisons C dans une liaison Si-C-Si.
申请公布号 WO2011013921(A2) 申请公布日期 2011.02.03
申请号 WO2010KR04510 申请日期 2010.07.12
申请人 APM INC.;AHN, KI HWAN;NAKANO, TADASHI;YANG, WOO HYOUNG;JUNG, SO RA 发明人 AHN, KI HWAN;NAKANO, TADASHI;YANG, WOO HYOUNG;JUNG, SO RA
分类号 C09D183/04;C08L83/00;C09D5/00;C09D5/25;C09D183/16 主分类号 C09D183/04
代理机构 代理人
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