| 发明名称 | 可用于平版印刷版的负性工作热敏感组合物用的增感剂/引发剂组合物 | ||
| 摘要 | 辐射敏感组合物和负性工作可成像元件，包括具有四芳基硼酸盐抗衡阴离子的阳离子IR吸收剂和具有四芳基硼酸盐抗衡阴离子的引发剂。这些组分的使用提供高成像敏感性、优良贮藏寿命和长印刷周期。 | ||
| 申请公布号 | CN101959686A | 申请公布日期 | 2011.01.26 |
| 申请号 | CN200980107263.X | 申请日期 | 2009.03.03 |
| 申请人 | 伊斯曼柯达公司 | 发明人 | C·辛普森;H·鲍曼;B·施特勒默尔 |
| 分类号 | B41C1/10(2006.01)I;B41M5/36(2006.01)I;C08F2/46(2006.01)I;C09B69/06(2006.01)I;G03F7/029(2006.01)I;B41M5/46(2006.01)I | 主分类号 | B41C1/10(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 范赤;林毅斌 |
| 主权项 | 1.一种辐射敏感组合物，包括：(a)能够吸收700至1200nm辐射的增感剂染料，(b)与曝光的增感剂互相作用产生自由基的引发剂，(c)可自由基聚合组分，和(d)任选的聚合物基料，其中增感剂染料为具有四芳基硼酸盐阴离子的阳离子染料，引发剂为选自四芳基硼酸二芳基碘<img file="FPA00001213172600011.GIF" wi="73" he="60" />四芳基硼酸三芳基硫<img file="FPA00001213172600012.GIF" wi="74" he="60" />四芳基硼酸重氮、四芳基硼酸磷<img file="FPA00001213172600013.GIF" wi="52" he="60" />和四芳基硼酸N-杂环<img file="FPA00001213172600014.GIF" wi="52" he="59" />的<img file="FPA00001213172600015.GIF" wi="55" he="60" />化合物，其中N用-OR取代，其中R为任选取代的烃基。 | ||
| 地址 | 美国纽约州 | ||