| 发明名称 | 一种化学机械抛光液 | ||
| 摘要 | 一种化学机械抛光液，包含：二氧化硅研磨颗粒、冠醚，该研磨液的pH值不大于7。本发明的化学机械抛光液可以显著提升氮化硅的抛光速度，还可以相对降低抛光液中化学品的用量，从而进一步减少环境污染。 | ||
| 申请公布号 | CN101955731A | 申请公布日期 | 2011.01.26 |
| 申请号 | CN200910054712.0 | 申请日期 | 2009.07.13 |
| 申请人 | 安集微电子(上海)有限公司 | 发明人 | 王晨;宋伟红;姚颖 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | 一种化学机械抛光液，包含：二氧化硅研磨颗粒、冠醚，所述抛光液的pH值不大于7。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼613-618室 | ||