发明名称 |
厌氧性氨氧化细菌的培养方法和装置 |
摘要 |
本发明提供一种厌氧性氨氧化细菌的培养装置(10),其是以亚硝酸和氨为基质在培养槽(12)中培养进行厌氧脱氮的新型厌氧性氨氧化细菌,具备:以规定浓度向培养槽(12)中供给氨的供氨机构(14),和以规定浓度向培养槽(12)中供给亚硝酸的供亚硝酸机构(16),和对基质的供给速度Y进行控制的控制装置(22)。由此,本发明可以在以氨和亚硝酸为基质的厌氧性氨氧化细菌的培养中,在没有浪费的情况下提供基质并生成菌体浓度高的种污泥,或者在短期内进行运转的调试。 |
申请公布号 |
CN1834231B |
申请公布日期 |
2011.01.19 |
申请号 |
CN200610067832.0 |
申请日期 |
2006.03.14 |
申请人 |
株式会社日立工业设备技术 |
发明人 |
井坂和一;角野立夫;常田聪 |
分类号 |
C12N1/20(2006.01)I;C12N15/31(2006.01)I |
主分类号 |
C12N1/20(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
朱丹 |
主权项 |
一种厌氧性氨氧化细菌的培养方法,是以亚硝酸和氨为基质在培养槽中培养进行厌氧脱氮的厌氧性氨氧化细菌的厌氧性氨氧化细菌的培养方法,其中,当将所述基质的供给速度设为Y、将所述基质的供给常数设为K、将进入对数增殖期后的培养天数设为T、将培养运转开始时的基质浓度设为A时,从所述厌氧性氨氧化细菌已进入对数增殖期开始,对提供给所述培养槽中的基质的供给速度Y进行控制,以便满足下式Y=A×exp(K×T),以所述厌氧性氨氧化细菌具有的16SrRNA基因为基础的DNA碱基序列的特定区域,含有序列表的序列编号1~9所示的序列中的至少一种以上的序列。 |
地址 |
日本国东京都 |