载板、用载板进行沉积处理方法及等离子体沉积处理设备

摘要

本发明提出了一种进行基片沉积处理的载板，包括：一个或多个假片，可拆卸地布置在所述载板上没有布置基片的空白区域中。根据本发明提供的用于等离子体沉积处理的载板，能够解决现有技术中载板的空白区域的薄膜暴起导致的颗粒危害的问题，同时还能保证不影响载板的使用寿命。本发明提出了一种等离子体沉积处理设备，具有反应腔室，包括如上所述的载板。本发明还提出了一种使用载板对基片进行沉积处理的方法。该方法能够避免经常更换载板，延长了载板的使用寿命，从而降低了生产成本。

主权项

一种用于进行基片沉积处理的载板，其特征在于，包括：一个或多个假片，可拆卸地布置在所述载板上没有布置基片的空白区域中。