发明名称 |
温控平行反应釜 |
摘要 |
本实用新型提供一种温控平行反应釜,为解决提高制冷效率、提高密封性能问题,本实用新型的中间盘和底盘各设置一层齿轮形曲线冷水流道环绕插孔或插槽,上盖和中间盘安装后、底盘盖和底盘安装后,其之间分别构成密封曲线冷水流道;在中间盘和底盘曲线冷水流道的外侧边缘位置各设置一道曲线密封圈;在上盖的与中间盘上位置处于曲线密封圈内侧的插孔相对应的位置加装O型密封圈;在底盘盖的与底盘上位置处于曲线密封圈内侧的插孔相对应的位置加装O型密封圈。本实用新型实施双层冷却,对反应物质降温至冷却点的时间有所减少,工作效率提高50%;密封抗压达到六公斤。 |
申请公布号 |
CN201701925U |
申请公布日期 |
2011.01.12 |
申请号 |
CN201020225787.9 |
申请日期 |
2010.06.13 |
申请人 |
大连四方佳特流体设备有限公司 |
发明人 |
孙玉霞;周亭;董显忠;宋晓庆;孙玉玮 |
分类号 |
B01J19/00(2006.01)I |
主分类号 |
B01J19/00(2006.01)I |
代理机构 |
大连智慧专利事务所 21215 |
代理人 |
孙宇宏 |
主权项 |
一种温控平行反应釜,主体结构的反应釜上盖安装在中间盘上,中间盘由支架安装在带有加热平板的反应釜底盘上,辅助配置反应管、传热装置、温度传感器、磁力搅拌器、搅拌子、水冷却系统,其特征在于:中间盘和底盘各设置一层齿轮形曲线冷水流道环绕插孔或插槽,上盖和中间盘安装后、底盘盖和底盘安装后,其之间分别构成密封曲线冷水流道。 |
地址 |
116052 辽宁省大连市旅顺经济开发区兴源路29号 |