Verfahren zur Herstellung von thermoelektrischen Schichten

摘要

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von thermoelektrischen Schichten durch Abscheiden von thermoelektrischem Material auf einem Substrat im Wege der Sputterdeposition. Um ein Verfahren zur Herstellung thermoelektrischer Schichten zu schaffen, die für den Einsatz in Thermogeneratoren besser geeignet sind, insbesondere höhere Seebeck-Koeffizienten aufweisen, wird die Herstellung eines Targets aus thermoelektrischem Material durch Vermischen von mindestens zwei pulverförmigen Ausgangsmaterialien in einer Partikelgröße von 0,01 µm-5000 µm unter Energieeinkopplung sowie das Abscheiden des thermoelektrischen Materials aus dem Target auf dem Substrat im Wege der Magnetron-Sputterdeposition vorgeschlagen.