| 发明名称 | 反应腔室和内衬装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种反应腔室及其内衬装置，反应腔室包括：腔体和位于腔体内部的内衬装置，所述内衬装置包括：悬挂件，固定于所述腔体的侧壁；侧壁内衬，与所述悬挂件挂接；第一支撑件，固定于所述腔体的底部；底部内衬，设置于所述第一支撑件上，并由所述第一支撑件限定其水平位置。此外，内衬装置还包括第二支撑件，固定于所述腔体的底部；匀流内衬，设置于所述第二支撑件上，并由所述第二支撑件限定其水平位置，该匀流内衬具有匀流通路；其中，所述匀流内衬位于所述加热装置的周围。所述内衬装置拆卸方便、能够降低设备维护时间及维护工作强度。 | ||
| 申请公布号 | CN101930891A | 申请公布日期 | 2010.12.29 |
| 申请号 | CN200910087929.1 | 申请日期 | 2009.06.25 |
| 申请人 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 发明人 | 林挺昌 |
| 分类号 | H01J37/16(2006.01)I;H01J37/02(2006.01)I;H01J37/32(2006.01)I;C23C16/44(2006.01)I;C23C16/34(2006.01)I | 主分类号 | H01J37/16(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 逯长明;王宝筠 |
| 主权项 | 一种反应腔室，其特征在于，包括：腔体和位于腔体内部的内衬装置，所述内衬装置包括：悬挂件，固定于所述腔体的侧壁；侧壁内衬，与所述悬挂件挂接；第一支撑件，固定于所述腔体的底部；底部内衬，设置于所述第一支撑件上，并由所述第一支撑件限定其水平位置。 | ||
| 地址 | 100016 北京市朝阳区酒仙桥东路一号 | ||