| 发明名称 |
VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES ISOLIERFILMS UND SUBSTRATVERABEITUNGSVORRICHTUNG DAFÜR |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE60143446(D1) |
申请公布日期 |
2010.12.23 |
| 申请号 |
DE20016043446 |
申请日期 |
2001.07.18 |
| 申请人 |
TOKYO ELECTRON LTD. |
发明人 |
AOYAMA, SHINTARO;SHINRIKI, HIROSHI;IGETA, MASANOBU |
| 分类号 |
H01L21/316;H01L29/78;C23C16/44;C23C16/452;C23C16/455;C23C16/458;C23C16/48;C23C16/50;H01J37/32;H01L21/00;H01L21/31;H01L21/314 |
主分类号 |
H01L21/316 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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