发明名称 使用同轴倾斜的改良式高倾斜注入角度效能
摘要 本发明包括具有以前不能实现的角度精度的用于高倾斜角度注入的方法。具有宽度维度和高度维度的离子束由许多单个的小射束组成。这些小射束通常在这两个维度中的一者内显示了更高的平行度。因此,为了最小化角度误差,工件绕实质上垂直于具有更高平行度的维度的轴倾斜。然后,工件在高倾斜角度被注入且绕正交于工件表面的直线旋转。此方法可被重复直至高倾斜注入已经在所有所需的区域实施。
申请公布号 CN101925982A 申请公布日期 2010.12.22
申请号 CN200880125723.7 申请日期 2008.12.18
申请人 瓦里安半导体设备公司 发明人 阿塔尔·古普塔;约瑟·C·欧尔森
分类号 H01L21/265(2006.01)I;H01J37/30(2006.01)I;H01J37/36(2006.01)I 主分类号 H01L21/265(2006.01)I
代理机构 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人 臧建明
主权项 一种执行高倾斜注入的方法,包括:a.提供具有两个正交的维度的离子束,所述离子束包括多个离子小射束,并且其中所述离子束的一个维度与另一个维度相比在所述离子小射束之间具有更高的平行度;b.将具有平表面的工件绕实质上垂直于具有所述更高的平行度的所述维度的轴倾斜,以便在所述工件的所述表面及垂直于所述离子束的平面间形成角度;c.将所述工件暴露于所述离子束;以及d.将所述工件以顺时针或逆时针的方向旋转。
地址 美国麻萨诸塞州