带电粒子束曝光系统

摘要

本发明涉及一种用于将图案转移到目标的表面上的带电粒子束曝光装置，包括：射束发生器，它包括基本在一个平面中的多个n个带电粒子源(1)，每个源适合于产生带电粒子束；第一孔径阵列(4)，它包括多组孔径，每组孔径对准一个源，以将每个射束分裂成多个细射束m，从而导致总共n×m个细射束；以及偏转器阵列(6)，它包括多组偏转器，每组偏转器对准一个源和一组孔径，一个组中的每个偏转器对准相应组的孔径，并且每组偏转器可用于确证对其相应射束的准直影响。

主权项

一种用于将图案转移到目标的表面上的带电粒子射束曝光装置，包括：射束发生器，其包括适合于产生带电粒子射束的带电粒子源；第一孔径阵列，包括多组孔径，每组孔径对准一个带电粒子源，用于将所述射束分裂成m个细射束，其中m是大于等于2的自然数，以及偏转器阵列，其中射束发生器包括在一个平面中的n个所述带电粒子源，其中n是大于1的自然数，从而产生总共n×m个细射束，偏转器阵列包括多组偏转器，每组偏转器对准一个带电粒子源和相应组孔径，一组中的每个偏转器对准相应组的相应孔径，并且每组偏转器用于确证对其相应射束的准直影响。