反应腔部件及应用该反应腔部件的等离子体处理装置

摘要

本实用新型提供一种反应腔部件及应用该反应腔部件的等离子体处理装置。一种反应腔部件，应用于等离子体处理装置中，所述等离子体处理装置包括反应腔室和位于所述反应腔室内的基台，在所述反应腔室内在所述基台的外围沿径向依次设置有边缘环和等离子体约束装置，所述反应腔室内还设置一位于所述等离子体约束装置下方的排气端，用于将所述反应腔室内的气体从所述排气端排出，所述反应腔部件沿所述边缘环的外围设置，且所述反应腔部件至少部分覆盖所述等离子体约束装置的朝向所述反应腔室内部的表面。该反应腔部件增强了工作过程中对等离子体约束装置的保护，减少了对等离子体约束装置的损坏，降低了生产成本而且提高了被处理基片良率。

主权项

一种反应腔部件，应用于等离子体处理装置中，所述等离子体处理装置包括反应腔室和位于所述反应腔室内的基台，在所述反应腔室内在所述基台的外围沿径向依次设置有边缘环和等离子体约束装置，所述反应腔室内还设置一位于所述等离子体约束装置下方的排气端，用于将所述反应腔室内的气体从所述排气端排出，其特征在于，所述反应腔部件沿所述边缘环的外围设置，且所述反应腔部件至少部分覆盖所述等离子体约束装置的朝向所述反应腔室内部的表面。