| 发明名称 | 间接辐射检测器 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种用于检测辐射(X)，例如用于医学成像系统的间接辐射检测器。该检测器具有像素元件(P1-P6)阵列，每个像素元件(P)被至少细分为第一子像素元件(PE1)和第二子像素元件(PE2)。每个子像素元件具有平行于像素元件阵列的表平面(60)的截面面积(A1，A2)。第一子像素元件(PE1)的截面面积(A1)不同于，例如小于，第二子像素元件(PE2)的截面面积(A2)，以提供可检测通量密度的动态范围。另外，第一子像素元件(PE1)具有设置在子像素元件侧面上的光敏装置(PS1)，该侧面基本正交于像素元件阵列的所述表平面，以提供良好的光学耦合。该检测器能够以较简单的检测器设计实现高的光子通量计数。 | ||
| 申请公布号 | CN101918860A | 申请公布日期 | 2010.12.15 |
| 申请号 | CN200880114694.4 | 申请日期 | 2008.10.29 |
| 申请人 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 发明人 | R·卡米;A·奥尔特曼 |
| 分类号 | G01T1/29(2006.01)I | 主分类号 | G01T1/29(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 谢建云;谭祐祥 |
| 主权项 | 一种检测辐射(X)的间接辐射检测器，该检测器包括：像素元件(P1 P6)阵列，每个像素元件(P)被至少细分为第一(PE1)子像素元件和第二(PE2)子像素元件，每个子像素元件具有平行于像素元件阵列的表平面(60)的截面面积(A1，A2)，其中第一子像素元件(PE1)的截面面积(A1)不同于第二子像素元件(PE2)的截面面积(A2)，并且其中第一子像素元件(PE1)包括设置在子像素元件侧面上的光敏装置(PS1)，该侧面基本正交于所述像素元件阵列的所述表平面。 | ||
| 地址 | 荷兰艾恩德霍芬 | ||