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发明名称 MEGASONIC IMMERSION LITHOGRAPHY EXPOSURE APPARATUS AND METHOD
摘要
申请公布号 IL171986(A) 申请公布日期 2010.11.30
申请号 IL20050171986 申请日期 2005.11.15
申请人 TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO. LTD.;CHING-YU CHANG;CHIEN-HUNG LIN;CHIN-HSIANG LIN;DING-CHUNG LU;BURN-JENG LIN 发明人 CHING-YU CHANG;CHIEN-HUNG LIN;CHIN-HSIANG LIN;DING-CHUNG LU;BURN-JENG LIN
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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