| 主权项 |
一种光学薄膜，包括：一基底；一叠层，在该基底上，该叠层系由至少一第一材料层及至少一第二材料层交替堆叠，其中该第一材料层具有一第一折射率，该第二材料层具有一第二折射率，该第一折射率不等于该第二折射率；以及一硬质涂膜，在该基底与该叠层之间，该硬质涂膜的组成物包括：(A)含有多官能甲基丙烯酸酯(polyfunctional methacrylate)之感光树脂；(B)反应型无机填料，由(i)烷氧基矽烷(alkoxysilane)与(ii)奈米无机粉体反应而成；(C)添加剂；以及(D)光起始剂。如申请专利范围第1项所述之光学薄膜，其中该叠层系由复数个第一材料层及复数个第二材料层交替堆叠。如申请专利范围第1项所述之光学薄膜，其中该第一材料层及该第二材料层包括金属氧化物。如申请专利范围第1项所述之光学薄膜，其中该第一折射率约介于2.2至2.5之间。如申请专利范围第1项所述之光学薄膜，其中该第二折射率约介于1.4至1.8之间。如申请专利范围第1项所述之光学薄膜，其中该第一折射率大于该第二折射率。如申请专利范围第6项所述之光学薄膜，其中该第一材料层包括Nb2O5、Bi2O3、CeO2、Cr2O3或TiO2。如申请专利范围第6项所述之光学薄膜，其中该第二材料层包括SiO2、Al2O3、Ge2O3、Y2O3或MgO。如申请专利范围第6项所述之光学薄膜，其中该第一材料层的厚度约介于20奈米至70奈米之间。如申请专利范围第6项所述之光学薄膜，其中该第一材料层的厚度约介于30奈米至150奈米之间。如申请专利范围第1项所述之光学薄膜，其中该第一材料层及该第二材料层系以双极直流式脉冲溅镀法形成。如申请专利范围第1项所述之光学薄膜，其中该基底为透明基底。如申请专利范围第1项所述之光学薄膜，其中该基底包括玻璃基底、塑胶基底或可挠曲基底。一种光学薄膜的形成方法，包括：提供一基底；在该基底上形成一叠层，该叠层系由至少一第一材料层及至少一第二材料层交替堆叠，其中该第一材料层具有一第一折射率，该第二材料层具有一第二折射率，该第一折射率不等于该第二折射率；以及在该基底与该叠层之间形成一硬质涂膜，该硬质涂膜的组成物包括：(A)含有多官能甲基丙烯酸酯(polyfunctional methacrylate)之感光树脂；(B)反应型无机填料，由(i)烷氧基矽烷(alkoxysilane)与(ii)奈米无机粉体反应而成；(C)添加剂；以及(D)光起始剂。如申请专利范围第14项所述之光学薄膜的形成方法，其中该叠层系由复数个第一材料层及复数个第二材料层交替堆叠。如申请专利范围第14项所述之光学薄膜的形成方法，其中该第一材料层及该第二材料层包括金属氧化物。如申请专利范围第14项所述之光学薄膜的形成方法，其中该第一折射率约介于2.2至2.5之间。如申请专利范围第14项所述之光学薄膜的形成方法，其中该第二折射率约介于1.4至1.8之间。如申请专利范围第14项所述之光学薄膜的形成方法，其中该第一折射率大于该第二折射率。如申请专利范围第19项所述之光学薄膜的形成方法，其中该第一材料层包括Nb2O5、Bi2O3、CeO2、Cr2O3或TiO2。如申请专利范围第19项所述之光学薄膜的形成方法，其中该第二材料层包括SiO2、Al2O3、Ge2O3、Y2O3或MgO。如申请专利范围第19项所述之光学薄膜的形成方法，其中该第一材料层的厚度约介于20奈米至70奈米之间。如申请专利范围第19项所述之光学薄膜的形成方法，其中该第一材料层的厚度约介于30奈米至150奈米之间。如申请专利范围第14项所述之光学薄膜的形成方法，其中该第一材料层及该第二材料层系以双极直流式脉冲溅镀法形成。如申请专利范围第14项所述之光学薄膜的形成方法，其中该基底为透明基底。如申请专利范围第14项所述之光学薄膜的形成方法，其中该基底包括玻璃基底、塑胶基底或可挠曲基底。如申请专利范围第14项所述之光学薄膜的形成方法，其中该硬质涂膜系经光照固化而形成。 |
