| 主权项 |
一种平面光源结构，包含：一上基板；一下基板，面对该上基板设置，且具有复数个阻隔壁，其中该些阻隔壁系与该上基板形成复数个发光腔体；一凹槽结构，位于该下基板面对于该上基板之一表面的边缘上；以及一黏胶，全部容置于该凹槽结构中，用以黏合该上基板与该下基板。如申请专利范围第1项所述之平面光源结构，其中所有该些阻隔壁直接接触该上基板。如申请专利范围第1项所述之平面光源结构，其中该凹槽结构的剖面形状系四边形。如申请专利范围第1项所述之平面光源结构，其中该凹槽结构的剖面形状系弧形。一种平面光源结构，包含：一上基板；一下基板，面对该上基板设置，且具有复数个阻隔壁，其中该些阻隔壁系与该上基板形成复数个发光腔体；一凹槽结构，位于该上基板面对于该下基板之一表面的边缘上；以及一黏胶，全部容置于该凹槽结构中，用以黏合该上基板与该下基板。如申请专利范围第5项所述之平面光源结构，其中所有该些阻隔壁直接接触该上基板。如申请专利范围第5项所述之平面光源结构，其中该凹槽结构的剖面形状系四边形。如申请专利范围第5项所述之平面光源结构，其中该凹槽结构的剖面形状系弧形。一种平面光源结构，包含：一上基板，一下基板，面对该上基板设置，且具有复数个阻隔壁，其中该些阻隔壁系与该上基板形成复数个发光腔体；一第一凹槽结构，位于该上基板面对于该下基板之一下表面的一第一边缘上；一第二凹槽结构，位于该下基板面对于该上基板之一上表面的一第二边缘上；以及一黏胶，全部容置于该第一凹槽结构及该第二凹槽结构中，用以黏合该上基板及该下基板。如申请专利范围第9项所述之平面光源结构，其中该第一边缘与该第二边缘系分别位于该平面光源结构的相对侧边。如申请专利范围第9项所述之平面光源结构，其中所有该些阻隔壁直接接触该上基板。如申请专利范围第9项所述之平面光源结构，其中该第一凹槽结构的剖面形状系四边形。如申请专利范围第9项所述之平面光源结构，其中该第二凹槽结构的剖面形状系四边形。如申请专利范围第9项所述之平面光源结构，其中该第一凹槽结构的剖面形状系弧形。如申请专利范围第9项所述之平面光源结构，其中该第二凹槽结构的剖面形状系弧形。 |
