发明名称 凹入式沟道晶体管结构
摘要 一种凹入式沟道晶体管结构,包含一半导体基底;一沟槽绝缘区域,设于该半导体基底中,并定义出一有源区域;一栅极沟槽,设于该有源区域中,该栅极沟槽包含一垂直侧壁部分及一球型底部;一凹入式栅极,设于该栅极沟槽中,该凹入式栅极包含一球型栅极下部,位于该球型底部;一栅极氧化层,位于该球型底部;一源极掺杂区,位于该凹入式栅极一侧的该有源区域中;一漏极掺杂区,位于该凹入式栅极另一侧的该有源区域中;以及一沟道区域,介于该源极掺杂区与该漏极掺杂区之间,其中该沟道区域从一栅极沟道宽度方向来看,为一上凸的曲面轮廓。
申请公布号 CN101587908B 申请公布日期 2010.11.17
申请号 CN200810109134.1 申请日期 2008.05.23
申请人 南亚科技股份有限公司 发明人 王哲麒;廖伟明
分类号 H01L29/78(2006.01)I;H01L29/10(2006.01)I;H01L27/108(2006.01)I 主分类号 H01L29/78(2006.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人 陶凤波
主权项 一种凹入式沟道晶体管结构,包含有:半导体基底;沟槽绝缘区域,设于该半导体基底中,并定义出有源区域;栅极沟槽,设于该有源区域中,其中该栅极沟槽包含垂直侧壁部分以及球型底部;凹入式栅极,设于该栅极沟槽中,且该凹入式栅极包含球型栅极下部,位于该球型底部;栅极氧化层,位于该球型底部,介于该半导体基底与该球型栅极下部之间;源极掺杂区,位于该凹入式栅极一侧的该有源区域中;漏极掺杂区,位于该凹入式栅极另一侧的该有源区域中;以及沟道区域,介于该源极掺杂区与该漏极掺杂区之间,其中该沟道区域从栅极沟道宽度方向来看,为上凸的曲面轮廓。
地址 中国台湾桃园县