发明名称 Verfahren und Kalibriermaske zum Kalibrieren einer Positionsmessvorrichtung
摘要 Ein Verfahren zum Kalibrieren einer Vorrichtung (10) zur Positionsvermessung von Messstrukturen (14) auf einer Lithographiemaske (12) umfasst die folgenden Schritte: Qualifizieren einer Kalibriermaske (40) mit darauf angeordneten diffraktiven Strukturen (42) durch Bestimmen von Positionen der diffraktiven Strukturen (42) zueinander mittels interferometrischer Messung, Bestimmen von Positionen von auf der Kalibriermaske (40) angeordneten Messstrukturen (14) zueinander mittels der Vorrichtung sowie Kalibrieren der Vorrichtung (10) mittels der für die Messstrukturen (14) bestimmten Positionen sowie der für die diffraktiven Strukturen (42) bestimmten Positionen.
申请公布号 DE102009019140(A1) 申请公布日期 2010.11.04
申请号 DE20091019140 申请日期 2009.04.29
申请人 CARL ZEISS SMS GMBH 发明人 KERWIEN, NORBERT;HETZLER, JOCHEN
分类号 G03F9/00;G03F1/00;G03F1/42 主分类号 G03F9/00
代理机构 代理人
主权项
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