| 发明名称 |
Verfahren zum Strukturieren einer Resistschicht und Negativ-Resistschicht |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE10260235(B4) |
申请公布日期 |
2010.10.28 |
| 申请号 |
DE20021060235 |
申请日期 |
2002.12.20 |
| 申请人 |
INFINEON TECHNOLOGIES AG |
发明人 |
SCHNEEGANS, MANFRED;KROENINGER, WERNER |
| 分类号 |
G03F7/00;G03F7/004;G03F7/09;G03F7/16;G03F7/32;G03F7/34 |
主分类号 |
G03F7/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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