除残留物的含有阳离子盐的组合物及其使用方法

摘要

本发明涉及一种含水的清洗用组合物，其用于从基底上，例如，半导体基底上除去不需要的有机和无机残留物和污染物。该清洗用组合物包括按重量计约0.01％至约40％的选自胍盐、乙脒盐、甲脒盐和其混合物的盐；水；和任选的可溶性有机溶剂。根据本发明的组合物不含有氧化剂和磨粒，并且可以从基底，尤其是从具有含硅BARC和/或光刻胶残留物的基底上除去残留物。

主权项

一种用于除去基底的残留物的组合物，该组合物由以下物质组成：选自盐酸胍、硫酸胍、盐酸氨基胍、乙酸胍、碳酸胍、硝酸胍、甲脒亚胺、亚硫酸甲脒、醋酸甲脒、碳酸氨基胍、盐酸碳酸氨基胍、氯化甲脒及其混合物的盐；水；和能和水混溶的有机溶剂，其选自二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮、二甲亚砜、二甲基甲酰胺、N-甲基甲酰胺、甲酰按、二甲基-2-哌啶酮、四氢糠基醇、二醇醚、甘油及其混合物；任选的腐蚀抑制剂；任选的羟胺或其酸性盐；任选的氟化物离子源；任选的季铵化合物；和任选的胺；条件是该组合物不含有氧化剂和磨粒。