| 摘要 |
1. Вакуумное обрабатывающее устройство для облучения материала напыления, получаемого паровым осаждением, содержащегося в источнике-испарителе, электронным пучком из электронной пушки Пирса и образования осажденного слоя на обрабатываемой подложке, расположенной напротив источника-испарителя, отличающееся тем, что магнитное устройство для создания магнитного поля, по существу, перпендикулярного направлению падения электронного пучка и практически параллельного поверхности излучения электронного пучка источника-испарителя, обеспечено снаружи вакуумной камеры, с задней стороны поверхности излучения электронного пучка для отклонения и направления электронного пучка к точке испарения источника-испарителя. ! 2. Устройство по п.1, отличающееся тем, что источник-испаритель представляет собой кольцевой нагреватель. ! 3. Устройство по п.1, отличающееся тем, что испаряемый и осаждаемый материал представляет собой металл, металлический оксид или изоляционный материал. ! 4. Устройство по п.3, отличающееся тем, что металлический оксид представляет собой MgO или композиционный материал на основе MgO, используемый в качестве защитного слоя для экрана плазменной панели. ! 5. Устройство по п.1, отличающееся тем, что магнитное устройство состоит из постоянного магнита. ! 6. Устройство по п.1, отличающееся тем, что оно представляет из себя поточное устройство вакуумного парового осаждения, включающее в себя, по меньшей мере, две камеры, а именно загрузочно-разгрузочную и камеру парового осаждения, или три камеры загрузочную, камеру парового осаждения и разгрузочную, и отличается тем, что электронная пушка Пирса закреплена на |
