曝光装置

摘要

本发明提供一种曝光装置，包括：承载并搬运滤色基板1的载物台5；以与滤色基板1邻接相对置的方式保持光掩膜14的掩膜载物台6；在曝光过程中持续点亮并对光掩膜14照射曝光用光的光源7；使照射在光掩膜14上的曝光用光的亮度分布均匀的光积分仪8；使照射在光掩膜14上的曝光用光成为平行光的聚光透镜9；在聚光透镜9的靠前侧形成光积分仪8的端面像的成像透镜10；设置在成像透镜10的成像位置附近，并与多个曝光区域2随着滤色基板1的移动而依次通过光掩膜14的下侧同步，进行曝光用光的照射及遮断切换的光闸11。由此，能够防止在被曝光体上沿其搬运方向设定的多个曝光区域的外部彼此邻接的曝光区域之间的部分被曝光。

主权项

一种曝光装置，包括：载物台，将多个曝光区域至少排成一列而设定的被曝光体承载在上表面上，沿着上述多个曝光区域的排列方向搬运上述被曝光体；掩膜载物台，设置在上述载物台的上方，以与上述被曝光体接近并对置的方式保持光掩膜；光源，在上述被曝光体的曝光过程中持续点亮，对保持在上述掩膜载物台上的光掩膜照射曝光用光；聚光透镜，设置在上述掩膜载物台和光源之间，使照射在上述光掩膜上的曝光用光成为平行光；该曝光装置的特征在于，包括：成像透镜，设置在上述光源和聚光透镜之间，在上述聚光透镜的靠前侧形成上述光源的像；光闸，设置在上述成像透镜所成的上述光源的像的位置附近，并与上述多个曝光区域随着搬运上述被曝光体而依次通过上述光掩膜的下侧同步，切换曝光用光的照射及遮断。