| 发明名称 | 离子束辅助多弧离子镀真空镀膜机 | ||
| 摘要 | 本实用新型涉及真空镀膜设备，具体地说是一种离子束辅助多弧离子镀真空镀膜机，包括真空室、真空抽气系统及机架，真空室安装在机架上，真空抽气系统与真空室密封连接；所述真空室内设有与其密封连接的中心转轴，中心转轴的底端与安装在机架上的驱动电机的输出轴相连接；所述中心转轴的两侧对称设有安装在真空室内壁的离子束和弧源，中心转轴上设有与其共同转动的工件架；该工件架位于离子束和弧源的下方。本实用新型在真空室内安装了离子源和弧源，提高了圆柱靶材的利用率；在镀膜时离子源和弧源同时工作，利用离子源提高工作气体的离化率，对薄膜的光洁度和附着力有很大的提高。 | ||
| 申请公布号 | CN201614404U | 申请公布日期 | 2010.10.27 |
| 申请号 | CN200920350080.8 | 申请日期 | 2009.12.29 |
| 申请人 | 中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司 | 发明人 | 张健;孟凡荣;张军;周景玉;佟辉 |
| 分类号 | C23C14/24(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/24(2006.01)I |
| 代理机构 | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人 | 白振宇 |
| 主权项 | 一种离子束辅助多弧离子镀真空镀膜机，包括真空室、真空抽气系统及机架，真空室安装在机架上，真空抽气系统与真空室密封连接；其特征在于：所述真空室(4)内设有与其密封连接的中心转轴(14)，中心转轴(14)的底端与安装在机架(6)上的驱动电机(5)的输出轴相连接；所述中心转轴(14)的两侧对称设有安装在真空室(4)内壁的离子束(2)和弧源(12)，中心转轴(14)上设有与其共同转动的工件架(11)；该工件架(11)位于离子束(2)和弧源(12)的下方。 | ||
| 地址 | 110168 辽宁省沈阳市浑南新区新源街一号 | ||