| 发明名称 | 用于从基片上除去光致抗蚀剂和/或蚀刻残留物的组合物及其应用 | ||
| 摘要 | 含有一些有机溶剂和季铵化合物的组合物能够将残留物例如光致抗蚀剂和/或蚀刻残留物从物品上除去，其中所述有机溶剂包含至少505重量的二醇醚。 | ||
| 申请公布号 | CN1724626B | 申请公布日期 | 2010.10.27 |
| 申请号 | CN200510087545.1 | 申请日期 | 2005.07.22 |
| 申请人 | 气体产品与化学公司 | 发明人 | M·I·埃格贝;D·G·詹宁斯 |
| 分类号 | C11D7/32(2006.01)I;G03F7/42(2006.01)I;H01L21/30(2006.01)I | 主分类号 | C11D7/32(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 温宏艳;赵苏林 |
| 主权项 | 用于除去包括光致抗蚀剂残留物、蚀刻残留物及其组合的残留物的组合物，所述组合物包含：a)50％重量或大于50％重量的包含二醇醚的有机溶剂，其中至少50％重量的所述有机溶剂是二醇醚；b)0.5％重量-15％重量的季铵化合物；c)大于0至最高达20％重量的腐蚀抑制剂，其中所述腐蚀抑制剂是至少一种选自有机酸、有机酸盐、酚、苯并三唑、羟基胺化合物和羟基胺化合物酸式盐及其混合物的抑制剂；和d)辅助有机溶剂，其中所述辅助有机溶剂包含C2-C20烷二醇和C3-C20烷三醇。 | ||
| 地址 | 美国宾夕法尼亚州 | ||