发明名称 |
干法清洗时间的确定方法、装置及等离子体处理设备 |
摘要 |
本发明提供一种干法清洗时间的确定方法,其包括:步骤100,借助于清洗气体对等离子体工艺腔室内壁上的附着物进行清洁处理,并利用红外光谱仪实时测定所述腔室内壁上的附着物的红外吸收光谱;步骤300,根据所述附着物的红外吸收光谱确定所述清洗气体进行清洁处理的终点时刻。本发明还提供一种工艺腔室的干法清洗方法以及应用上述方法的等离子体处理设备。此外,本发明还提供一种干法清洗时间的确定装置,以及应用该装置的离子体处理设备。本发明提供的上述方法/装置及设备能够较为精确地确定对工艺腔室进行干法清洗时的终点,从而提高工艺生产效率,并延长工艺腔室及其内部的部件的使用寿命。 |
申请公布号 |
CN101859689A |
申请公布日期 |
2010.10.13 |
申请号 |
CN200910081451.1 |
申请日期 |
2009.04.07 |
申请人 |
北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
发明人 |
白志民 |
分类号 |
H01L21/00(2006.01)I;H01L21/66(2006.01)I;B08B5/02(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 |
代理人 |
张天舒;陈源 |
主权项 |
一种干法清洗时间的确定方法,其特征在于,包括下述步骤:步骤100,借助于清洗气体对等离子体工艺腔室内壁上的附着物进行清洁处理,并利用红外光谱仪实时测定所述腔室内壁上的附着物的红外吸收光谱;步骤300,根据所述附着物的红外吸收光谱确定所述清洗气体进行清洁处理的终点时刻。 |
地址 |
100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5楼南二层 |