发明名称 储存媒体、再生方法及记录方法
摘要
申请公布号 TWI331754 申请公布日期 2010.10.11
申请号 TW095108436 申请日期 2006.03.13
申请人 东芝股份有限公司 发明人 安东秀夫;森田成二;高泽孝次;大寺泰章;森下直树;梅泽和代
分类号 G11B7/244 主分类号 G11B7/244
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种资讯储存媒体,包含:光反射层;记录层,形成于该光反射层上,该记录层包括未记录部分;以及透明层,形成于该记录层上或上方,其中资讯能以波长405 nm的光被记录到该记录层上,该记录层被组构以具有记录部分及未记录部分,该资讯被组构以基于再生光的强度被再生,该再生光被入射至该光反射层且被该光反射层透过该记录层反射,被该光反射层反射且透射过该记录层的该记录部分之该再生光的强度系高于被该光反射层反射及透射过该未记录部分之该再生光的强度,光透过该透明层被入射至该记录层且被该光反射层反射,以及该记录层具有以下特性:在该未记录部分中的光吸收度系最大处的最大吸收波长(λmax write)比405 nm更长,在405 nm波长处的该未记录部分中的光吸收度不小于在该最大吸收波长处的光吸收度的68%,及该最大吸收波长与在该记录部分中之光吸收度系最大的最大光吸收波长间的差不大于100 nm。一种用以记录资讯于如申请专利范围第1项之资讯储存媒体的方法,该方法包含:以光照射该资讯储存媒体;及记录该资讯。一种用以自如申请专利范围第1项之该资讯储存媒体再生资讯的方法,该方法包含:以波长450 nm的再生光照射该资讯储存媒体;及基于该再生光的强度再生该资讯,该再生光系被入射至该光反射层且被该光反射层透过该记录层反射。一种资讯储存媒体,包含:光反射层;记录层,形成于该光反射层上,该记录层包括未记录部分;及透明层,形成于该记录层上或上方,其中资讯能以波长405 nm的光被记录到该记录层上,该记录层被组构以具有记录部分及未记录部分,该资讯被组构以基于再生光的强度被再生,该再生光被入射至该光反射层且被该光反射层透过该记录层反射,被该光反射层反射且透射过该记录部分之该再生光的强度系高于被该光反射层反射及透射过该未记录部分之该再生光的强度,光透过该透明层被入射至该记录层且被该光反射层反射,以及该记录层具有以下特性:在该未记录部分中的光吸收度系最大处的最大吸收波长(λmax write)比405 nm更长,及在405 nm波长处或在355 nm波长处的该未记录部分中的光吸收度不小于在该最大吸收波长处的光吸收度的40%。一种用以记录资讯于如申请专利范围第4项之资讯储存媒体的方法,该方法包含:以波长450 nm的光照射该资讯储存媒体;及记录该资讯。一种用以自如申请专利范围第4项之该资讯储存媒体再生资讯的方法,该方法包含:以波长450 nm的再生光照射该资讯储存媒体;及基于该再生光的强度再生该资讯,该再生光系被入射至该光反射层且被该光反射层透过该记录层反射。
地址 日本