| 主权项 |
一种柱状电极靶材装置，包括：一中空柱状电极壳体，系具有一内腔体；至少一靶材，系围绕该中空柱状电极壳体之外侧而配置；一托座，其中，该中空柱状电极壳体系组设于该托座上；一第一管，系部份配置于该内腔体中，且该第一管系与该内腔体连通；一第二管，系连通至该内腔体；多数个磁石支撑件，系容置于该内腔体中，并围绕该第一管而配置；以及多数个磁石阵列，系与该磁石支撑件连接；其中，该每一磁石支撑件系配置有一组该磁石阵列。如申请专利范围第1项所述之柱状电极靶材装置，其中，垂直该第一管之轴向之一平面系配置有二个以上之磁石支撑件。如申请专利范围第1项所述之柱状电极靶材装置，其中，该磁石阵列系一MxN之阵列，M及N皆为整数，且M≧1以及N>1。如申请专利范围第1项所述之柱状电极靶材装置，其中，该每一磁石支撑件与该第一管之间系配置有一旋转单元。如申请专利范围第1项所述之柱状电极靶材装置，更包括一固定单元、以及一支撑单元，该支撑单元系配置于该托座与该中空柱状电极壳体之间，该固定单元系配置于该中空柱状电极壳体外，其中，该支撑单元系包括有一支撑块以及一支撑弹簧。如申请专利范围第5项所述之柱状电极靶材装置，其中，该固定单元系包括有一固定座以及至少一固定元件，该固定座系包括有至少一容柱槽，且该至少一固定元件系容置于该至少一容柱槽内。如申请专利范围第1项所述之柱状电极靶材装置，其中，更包括一密封垫，系配置于该中空柱状电极壳体与该托座之间。如申请专利范围第1项所述之柱状电极靶材装置，其所包括之该靶材之数目系二个以上，且该二个以上之靶材系围绕该中空柱状电极壳体之外侧而配置。如申请专利范围第1项所述之柱状电极靶材装置，其中，该磁石阵列之磁石系为永久磁铁。如申请专利范围第1项所述之柱状电极靶材装置，其中，更包括一电源供应源，系与该托座电性耦接。 |
