| 发明名称 | 偏光膜的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明为一种偏光膜的制造方法，对聚乙烯醇系膜依次进行膨润处理、染色处理、硼酸处理以及洗净处理，在这些处理前和/或处理中进行单轴拉伸，其中，将洗净处理前的膜中的硼化合物含量设为Y、将洗净处理后的膜中的硼化合物含量设为X时，使一次洗净处理前后的膜中的硼化合物含量的残留率为0.7～0.98，或者，将洗净处理前的膜宽设为A、将洗净处理后的膜宽设为B时，使一次洗净处理前后的A/B为0.97～1.03。根据本发明能够提供具有无颜色偏差、无异物缺陷、无打痕等良好外观的偏光膜的制造方法。 | ||
| 申请公布号 | CN101852879A | 申请公布日期 | 2010.10.06 |
| 申请号 | CN201010141470.1 | 申请日期 | 2010.03.26 |
| 申请人 | 住友化学株式会社 | 发明人 | 纲谷圭二;难波明生 |
| 分类号 | G02B5/30(2006.01)I;G02B1/10(2006.01)I | 主分类号 | G02B5/30(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 赵曦;金世煜 |
| 主权项 | 一种偏光膜的制造方法，对聚乙烯醇系膜依次进行膨润处理、染色处理、硼酸处理以及洗净处理，在这些处理前和/或处理中进行单轴拉伸，其中，将洗净处理前的膜中的硼化合物含量设为Y、将洗净处理后的膜中的硼化合物含量设为X时，使一次洗净处理前后的膜中的硼化合物含量的残留率X/Y为0.7～0.98。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||