一种对粉体表面进行镀膜的工艺及其设备

摘要

本发明是关于一种对粉体表面进行镀膜的工艺，主要包括：提供有真空环境的工作室；让粉体在真空环境中下落，在下落过程中，采用真空镀膜发生源对粉体表面实施镀覆，尤其是粉体在上述真空环境中的下落过程中作螺旋运动，并使粉体表面形成相对均匀的覆层；以及关于一种用于这种工艺的设备，主要包括真空室、真空镀膜发生源、真空抽气系统，其中该真空室内安装有一个倒锥型或类倒锥型可旋转的料斗，该料斗上端与进料室连通，而相对的下端与收料室连通，真空镀膜发生源安装该料斗内的中部，工作室内壁上固定有用来驱动料斗旋转的且具有调速功能电机。这种工艺及其设备的单次处理量大、运行成本低。

主权项

一种对粉体表面进行镀膜的工艺，主要包括：提供有真空环境的工作室；让粉体在真空环境中下落，在下落过程中，采用真空镀膜发生源对粉体表面实施镀覆，其特征在于：上述的真空环境设有一倒锥型或类倒锥型可旋转的料斗，所述真空镀膜发生源位于料斗内的中部，粉体在上述真空环境中沿所述旋转的倒锥型或类倒锥型料斗的壁面下落的过程中作螺旋运动同时还发生翻转，使粉体表面形成相对均匀的覆层。