| 发明名称 | 包含N-取代的咪唑的抛光组合物和将铜膜抛光的方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了用于抛光铜或铜合金的抛光组合物，包含：氧化剂(A)；至少一种选自氨基酸、具有8个或更少碳原子的羧酸、或无机酸的酸(B)；具有含8个或更多碳原子的烷基的磺酸(C)；具有含8个或更多碳原子的烷基的脂肪酸(D)；和下述通式(1)所示的N-取代的咪唑(E)：[化学式1]<img file="200880115691.2_AB_0.GIF" wi="270" he="117" />在式(1)中，Ra、Rb和Rc代表H或具有1至4个碳原子的烷基，且Rd代表选自苄基、乙烯基、具有1至4个碳原子的烷基、和这些基团的一部分H已被OH或NH<sub>2</sub>替代而得的基团的基团。 | ||
| 申请公布号 | CN101855309A | 申请公布日期 | 2010.10.06 |
| 申请号 | CN200880115691.2 | 申请日期 | 2008.11.12 |
| 申请人 | 昭和电工株式会社 | 发明人 | 佐藤孝志;高桥浩;岛津嘉友;伊藤祐司 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I;H01L21/321(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人 | 林柏楠;彭飞 |
| 主权项 | 1.用于抛光铜或铜合金的抛光组合物，包含：氧化剂(A)；至少一种选自氨基酸、具有8个或更少碳原子的羧酸、或无机酸的酸(B)；具有含8个或更多碳原子的烷基的磺酸(C)；具有含8个或更多碳原子的烷基的脂肪酸(D)；和下述通式(1)所示的N-取代的咪唑(E)：[化学式1]<img file="FPA00001137166100011.GIF" wi="773" he="323" />在式(1)中，Ra、Rb和Rc代表H或具有1至4个碳原子的烷基，且Rd代表选自苄基、乙烯基、具有1至4个碳原子的烷基、和这些基团的一部分H已被OH或NH<sub>2</sub>替代而得的基团的基团。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||