靠近连续注入机最后能量过滤器中弯折部的闭环回路剂量控制剂量杯

摘要

一种离子注入系统(600)，具有靠近连续离子注入机的扫描或条带状离子束最后能量弯折定位的剂量杯(634)，以用于提供与工件或晶片的剂量相关联的精确离子流测量。该系统包括具有用于产生条带状离子束(602)的离子束源的离子注入机。该系统还包括角能量过滤器(AEF)系统，其配置成通过在最后能量弯折部弯折该离子束以过滤该条带状离子束的能量。该AEF系统还包括与该AEF系统相关联且配置成测量离子束流的AEF剂量杯，该剂量杯基本上紧接着在该最后能量弯折部之后定位。位于该AEF系统下游的终端站(610)由室定义，其中工件紧固在适当位置，以相对于该条带状离子束而移动，以将离子注入于该工件。该AEF剂量杯有利地置于该终端站的上游靠近该最后能量弯折部，从而减轻了由于在该工件上的注入操作造成的气体释出所产生的压力变化。因此，该系统可在这些气体在离子束里产生显著数量的中性粒子之前，提供精确的离子流测量，而通常无须压力补偿。这种剂量测量的测量结果也可用于在出现从该离子源的离子流变化以及从该工件的气体释出时影响该扫描速度，以确保均匀的闭环回路剂量控制。

主权项

一种离子注入系统，包括：离子注入机，配置成产生条带状离子束；角能量过滤器系统，配置成通过在最后能量弯折部弯折所述离子束来过滤所述离子束的能量；角能量过滤器剂量杯，与所述角能量过滤器系统相关联，并配置成测量离子束流，所述角能量过滤器剂量杯置于所述最后能量弯折部之后，与工件相比更靠近所述最后能量弯折部；以及终端站，位于所述角能量过滤器系统下游，所述终端站是由室所定义，其中所述工件紧固在适当位置，并提供相对于所述条带状离子束的移动以将离子注入所述工件内。