一种高比表面积纳米二氧化硅的制备方法

摘要

一种高比表面积纳米SiO2的制备方法，采用工业硅酸钠为原料，配制成浓度为0.1～0.8mol/L的硅酸钠溶液，加入3％～20％的十六烷基三甲基溴化氨，缓慢滴加浓度为0.5～1.5mol/L酸化剂溶液，直至pH值为4～10，匀速搅拌，10～80℃下反应10～60min，生成前驱体沉淀；抽滤，去离子水洗涤，干燥，将所得产物300～1000℃条件下焙烧0.5～5h，得到纳米SiO2成品。本发明所制得的SiO2颗粒比表面积达700～1200m2/g，且工艺简单易行、成本低廉。

主权项

一种高比表面积纳米二氧化硅的制备方法，依次由以下步骤组成：(1)在浓度为0.1～0.8mol/L的硅酸钠溶液中，加入相对于硅酸钠质量3％～20％的十六烷三甲基溴化铵，超声分散，缓慢滴入浓度为0.5～1.5mol/L的酸化剂溶液，所述酸化剂选自工业盐酸、硫酸或硝酸之一，直到混合液pH值达到4～10，匀速搅拌，10～80℃下反应10～60min，生成前驱体沉淀；(2)真空过滤前驱体沉淀，用去离子水洗涤，干燥；(3)将所得产物在600～700℃条件下焙烧1h，得到纳米SiO2。