| 发明名称 |
ATOMIC DEPOSITION APPARATUS AND ATOMIC LAYER DEPOSITION METHOD |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR20100106614(A) |
申请公布日期 |
2010.10.01 |
| 申请号 |
KR20107019467 |
申请日期 |
2009.02.17 |
| 申请人 |
MITSUI ENGINEERING & SHIPBUILDING CO., LTD. |
发明人 |
TACHIBANA HIROYUKI |
| 分类号 |
H01L21/20;C23C16/452;H05H1/46 |
主分类号 |
H01L21/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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