发明名称 半反半透型显示装置及其阵列基板的制造方法
摘要 本发明涉及平板显示技术领域,尤其涉及一种半反半透型显示装置。该半反半透型显示装置包括阵列基板、彩膜基板、以及设置于彩膜基板和阵列基板之间的液晶层,所述阵列基板包括透明基板,以及形成于所述透明基板上的薄膜晶体管及其布线、保护层、电极层,所述保护层形成于所述薄膜晶体管及其布线之上,其用于保护所述薄膜晶体管及其布线,所述电极层形成于所述保护层之上,所述阵列基板分为透射区和反射区,在反射区中,所述阵列基板的电极层之上还形成有平坦层,所述平坦层由反射材料和有机材料的混合物经过涂布、曝光、显像工艺形成。此外,本发明还提供一种半反半透显示装置的阵列基板的制造方法。
申请公布号 CN101846839A 申请公布日期 2010.09.29
申请号 CN201010190733.8 申请日期 2010.06.02
申请人 深圳莱宝高科技股份有限公司 发明人 王士敏;潘良玉;商陆平;李绍宗
分类号 G02F1/1333(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I 主分类号 G02F1/1333(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种半反半透型显示装置,其包括阵列基板、彩膜基板、以及设置于彩膜基板和阵列基板之间的液晶层,所述阵列基板包括透明基板,以及形成于所述透明基板上的薄膜晶体管及其布线、保护层、电极层,所述保护层形成于所述薄膜晶体管及其布线之上,其用于保护所述薄膜晶体管及其布线,所述电极层形成于所述保护层之上,其特征在于:所述阵列基板分为透射区和反射区,在所述反射区中,所述阵列基板的电极层之上还形成有平坦层,所述平坦层由反射材料和有机材料的混合物经过涂布、曝光、显像工艺形成。
地址 518057 广东省深圳市南山区高新技术产业园区朗山二路9号
您可能感兴趣的专利