发明名称 |
一维孔性(Zn,Cd)S/SiO<sub>2</sub>管状纳米复合材料及其制备方法 |
摘要 |
本发明涉及一种高纯度、高密度、高产率的一维孔性(Zn,Cd)S/SiO2管状纳米复合材料及其制备方法,属于材料制备技术领域。本发明采用热蒸发法在镀有金膜的硅片上生长制备一维孔性(Zn,Cd)S/SiO2管状纳米结构。制备包括以下步骤:(1)将一定Zn∶Cd比的ZnS与CdS混合粉末原料盛于陶瓷舟中,放置于管式炉高温恒温区;(2)混合粉末在一定流量的氮气保护下在管式炉中高温升华、蒸发;(3)混合蒸汽在氮气带动下在气流下方的镀有金膜的硅片上沉积生长,得到所述纳米结构。所述方法合成工艺和设备简单,工艺参数可控性强,成本低廉,所得(Zn,Cd)S/SiO2管状纳米结构产量大、密度高、纯度高。所合成的一维孔性纳米结构在气敏性元器件、储氢材料、非线性光学材料以及太阳能电池等方面有广泛的应用前景。 |
申请公布号 |
CN101844741A |
申请公布日期 |
2010.09.29 |
申请号 |
CN201010162438.1 |
申请日期 |
2010.05.05 |
申请人 |
北京邮电大学 |
发明人 |
符秀丽;李旦;肖井华;蒋达娅;赵晓红 |
分类号 |
B82B1/00(2006.01)I;B82B3/00(2006.01)I |
主分类号 |
B82B1/00(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种具有优异气敏特性和发光特性的一维孔性(Zn,Cd)S/SiO2管状纳米复合材料,其特征在于,所述材料的主体为管状孔性非晶二氧化硅,管内壁生长有一层(Zn,Cd)S薄膜。 |
地址 |
100876 北京市海淀区西土城路10号 |