| 发明名称 |
Gallium nitride substrate and gallium nitride film deposition method |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP2019155(A3) |
申请公布日期 |
2010.09.22 |
| 申请号 |
EP20080008309 |
申请日期 |
2008.04.30 |
| 申请人 |
SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES, LTD. |
发明人 |
NAKAHATA, SEIJI |
| 分类号 |
C30B25/02;C30B29/40;H01L21/02 |
主分类号 |
C30B25/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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