衬底台、浸没式光刻设备以及器件制造方法

摘要

本发明提供一种衬底台、浸没式光刻设备和一种器件制造方法。本发明公开一种用于浸没式光刻设备的衬底台，包括：凹陷，其配置成容纳给定尺寸的衬底；和流体抽取系统，其配置成从所述衬底的边缘和所述凹陷的边缘之间的间隙抽取流体，流体抽取系统配置成使得从间隙的局部部分抽取的流体的流量大于从间隙的其他部分抽取的流体的流量。

主权项

一种用于浸没式光刻设备的衬底台，包括：凹陷，其配置成容纳给定尺寸的衬底，所述凹陷具有用以支撑所述衬底下表面的支撑区域和一边缘，所述边缘配置成当所述衬底由所述支撑区域支撑时邻近所述衬底的边缘；和流体抽取系统，其配置成从在所述衬底的边缘和所述凹陷的所述边缘之间的间隙抽取流体，其中所述流体抽取系统配置成使得在没有液体的情况下，从具有给定长度的所述间隙的一局部部分抽取的流体的流量大于从具有相同长度的所述间隙的其他部分抽取的流体的流量。