发明名称 粘性膜以及采用该膜的切割芯片结合膜和半导体器件
摘要 本发明涉及一种粘性膜、一种切割芯片结合膜和半导体器件。更具体而言,本发明的粘性膜的特征在于:包括基底膜和粘合剂层,并在5至50μm的厚度下具有20至50gf的屈服强度和30至80gf/mm的拉伸弹性区域斜率。在本发明的粘性膜中,控制屈服强度和拉伸弹性区域的斜率从而可以根据粘合剂层的厚度来预判并控制毛刺的发生率。包含该粘性膜的切割芯片结合膜和半导体器件具有低的毛刺发生率以及优异的可加工性和可靠性。
申请公布号 CN101835861A 申请公布日期 2010.09.15
申请号 CN200880112424.X 申请日期 2008.10.24
申请人 LG化学株式会社 发明人 洪宗完;金章淳;朴孝淳;柳贤智;高东汉;朱孝叔
分类号 C09J7/02(2006.01)I 主分类号 C09J7/02(2006.01)I
代理机构 北京金信立方知识产权代理有限公司 11225 代理人 黄丽娟;朱梅
主权项 一种粘性膜,其包括基底膜和粘合剂层,其中,所述粘合剂层在5至50μm的厚度下具有20至50gf的屈服强度和30至80gf/mm的拉伸弹性区域斜率。
地址 韩国首尔