发明名称 光学各向异性膜的制造方法及图像显示装置
摘要 本发明提供光学各向异性膜的制造方法,该方法具有:形成包含溶致液晶性化合物且显示各向同性相的各向同性层的工序;对该各向同性层施加磁场的工序。所述各向同性层是通过向长条状基材2的长度方向流延涂布液而在基材上形成的,所述涂布液包含溶致液晶性化合物和溶剂且显示各向同性相。使用磁场施加装置对该各向同性层施加磁场。
申请公布号 CN101836141A 申请公布日期 2010.09.15
申请号 CN200980100695.8 申请日期 2009.01.15
申请人 日东电工株式会社 发明人 西森才将;龟山忠幸;梅本彻
分类号 G02B5/30(2006.01)I;G02F1/13(2006.01)I;G02F1/1335(2006.01)I;G02F1/13363(2006.01)I 主分类号 G02B5/30(2006.01)I
代理机构 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人 刘新宇;李茂家
主权项 一种光学各向异性膜的制造方法,其特征在于,所述光学各向异性膜包含溶致液晶性化合物,所述方法具有:形成包含溶致液晶性化合物且显示各向同性相的各向同性层的工序;对所述各向同性层施加磁场的工序。
地址 日本大阪府