| 发明名称 | 光刻胶再生方法及其系统 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种光刻胶再生及其系统，利用低温浓缩抽离回收光刻胶溶液中的清洗溶剂，使其固含量达到原生光刻胶固含量以上，再经过滤装置除去回收光刻胶中的粒状物后，并添加光刻胶稀释剂以调整回收光刻胶的固含量及黏度使膜厚预测值接近原生光刻胶，以获得可再利用的再生光刻胶。经本发明的方法浓缩过后的再生光刻胶挥发性降低，有助于改善其涂布于基板时四角偏厚的现象。 | ||
| 申请公布号 | CN101042529B | 申请公布日期 | 2010.09.15 |
| 申请号 | CN200610065829.5 | 申请日期 | 2006.03.23 |
| 申请人 | 财团法人工业技术研究院 | 发明人 | 赖庆智;冯桂森;黄纬苓;杨炎胜;朱志弘;吴橞淂;邓纯祯;刘展睿;陈铭恩;陈志慧 |
| 分类号 | G03F7/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人 | 任默闻 |
| 主权项 | 一种光刻胶再生方法，其特征在于，包含下列步骤：(a)在压力位常压下，以低温浓缩抽离回收光刻胶溶液中的溶剂，使其固含量达到高于原生光刻胶3～8％后即停止；(b)过滤去除所述低温浓缩后的回收光刻胶中的粒状物；(c)添加溶剂以调整回收光刻胶的固含量及黏度；(d)监测所述调整后的回收光刻胶的固含量及黏度；及(e)调整所述回收光刻胶固含量及黏度，使其于固定转速下达成目标膜厚。 | ||
| 地址 | 中国台湾新竹县 | ||