发明名称 | 具有超硬镀膜之模仁 | ||
摘要 | |||
申请公布号 | TWI330124 | 申请公布日期 | 2010.09.11 |
申请号 | TW093123619 | 申请日期 | 2004.08.06 |
申请人 | 鸿海精密工业股份有限公司 | 发明人 | 简士哲 |
分类号 | B29C33/00 | 主分类号 | B29C33/00 |
代理机构 | 代理人 | ||
主权项 | 一种具有超硬镀膜之模仁,其包括:一模仁基体,其具有一模压面;及一超硬膜层覆盖于该模仁基体之模压面;其中,该超硬膜层包括无晶质氮化碳连续基体及立方氮化碳微粒分布于该无晶质氮化碳基体中者,其中该立方晶氮化碳微粒之摩尔百分比为10%~60%,该立方晶氮化碳微粒之粒径为5~100奈米范围内。如申请专利范围第1项所述之具有超硬镀膜之模仁,其中该模仁基体系由SiC、Si、Si3N4、ZrO2、Al2O3、TiN、TiO2、TiC、B4C、WC、W或WC-Co制成。如申请专利范围第2项所述之具有超硬镀膜之模仁,其中该模仁基体系经烧结而成。如申请专利范围第1项所述之具有超硬镀膜之模仁,其中该超硬膜层系通过电浆化学气相沈积法沈积而成。如申请专利范围第1项所述之具有超硬镀膜之模仁,其中该超硬膜层厚度为1微米至100微米范围内。如申请专利范围第1项所述之具有超硬镀膜之模仁,其中该模仁之模压面为非球面。如申请专利范围第1项所述之具有超硬镀膜之模仁,其中该模仁之模压面为平面。 | ||
地址 | 台北县土城市自由街2号 |