发明名称 耐压静态及动态排出器轴密封及其使用方法
摘要
申请公布号 TWI330235 申请公布日期 2010.09.11
申请号 TW093117339 申请日期 2004.06.16
申请人 亨席尔公司 发明人 哥兰 安德伯
分类号 F16J15/02 主分类号 F16J15/02
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种用于一中心定位旋转活动轴(10)之静态及动态轴密封的轴密封总成(100),其包含至少一用以密封该轴(10)之第一密封构件(8,32)、至少一附接至该轴(10)之转子构件(3,6)、及一附接至一外壳(30)之定子构件(1),其特征为该第一密封构件(8,32)被配置于该转子构件(3,6)中之一凹槽(7,31)中且适于在静态密封期间保持该密封之密封效能,而没有由一差异压力引起其降级,该差异压力呈现在轴向方向中该轴密封总成(100)之两侧上之媒质之间,该第一密封构件(8)被配置成可静态地密封抵靠着该定子构件(1)之一大体上径向定向表面、该凹槽(7,31)之一大体上径向定向表面(42)及该凹槽(7)之一大体上轴向定向表面(43),其中由该转子构件在该轴(10)旋转时达成动态密封,及其中该静态密封构件(8)被组态成可以在该轴(10)旋转时轴向及径向远离其静态密封位置移动。如请求项1之轴密封总成(100),其中该转子构件(3,6)包含至少一个排出器转子构件(3,6),其适于产生一用于动态密封补偿该差异压力之压力,且其被配置成邻近该定子构件(1)以在该轴(10)旋转时引起动态密封。如请求项2之轴密封总成(100),其中该排出器转子构件(3,6)具有邻近朝向该定子定向之排出器突起部分(4)及排出器凹槽(5),用于引起该动态密封效应。如前述请求项中任一项之轴密封总成(100),其中该凹槽(7)为该转子构件(3,6)中之一环形凹槽(7,31)且该第一密封构件(8)在该转子构件(3,6)中之该环形凹槽(7,31)中被包围,该凹槽(7,31)被配置为面向该定子构件(1)之径向表面(45)。如请求项4之轴密封总成(100),其中该环形凹槽(7,31)具有一大体上径向倾斜之第一环形凹槽表面(42)及一大体上轴向倾斜定向径向向外定位之第三环形凹槽表面(44),第一环形凹槽表面(42)桥接一大体上轴向定向径向向内定位之第二环形凹槽表面(43)。如请求项5之轴密封总成(100),其中用于静态密封之该密封构件(8)静态地密封抵靠着该大体上径向倾斜之第一环形凹槽表面(42)、该大体上轴向定向径向向内定位之第二环形凹槽表面(43)及该大体上径向定子表面(45),使得该差异压力在该等密封表面上引起该密封构件(8)之一支持密封压力。如请求项1、2或3之轴密封总成(100),其中该密封构件(8)由一回弹性可弹性变形材料制成。如请求项1、2或3之轴密封总成(100),其中该轴密封总成(100)被配置用于密封一轴承。如请求项8之轴密封总成(100),其中该轴密封总成(100)整合于该轴承。如请求项1、2或3之轴密封总成(100),其中该转子构件(6)装备有一摩擦耦合构件(9),该摩擦耦合构件(9)联锁地配置在该轴(10)及该转子构件(6)之间。如请求项10之轴密封总成(100),其中该转子构件包含一大体上罩住该摩擦耦合构件(9)之环形径向凹槽。如请求项10之轴密封总成(100),其中该摩擦耦合构件(9)被配置成使得一引起该轴(10)及该转子构件(6)之间之相对旋转运动的扭矩可引起该摩擦耦合构件(9)之压缩及在该轴(10)及该转子构件(6)之间增强之摩擦,使得在该相对旋转运动上达成制动。如请求项10之轴密封总成(100),其中该摩擦耦合构件(9)具有一环形圈形状,其邻近突起部分(50,52)及凹槽(51,53)。如请求项1、2或3之轴密封总成(100),其中一径向向内通道(91)延伸用于流体自该定子(1)之底部流通,该通道(91)与该密封总成(100)之内部及该外壳(30)之内部连通。如请求项14之轴密封总成(100),其中该通道(91)适于输送一流体,使得在该轴(10)旋转时该流体就达到自该排出器转子构件(3,6)排出且远离。如请求项15之轴密封总成(100),其中该流体为一清洁流体,其在该轴(1)旋转时自该密封总成(100)排出在静态密封期间积聚于该等排出器凹槽(5)中之材料。如请求项15之轴密封总成(100),其中该流体为一润滑流体。如请求项17之轴密封总成(100),其中该润滑流体为油,当该油自该密封总成排出时其被转换为油雾。如请求项1、2或3之轴密封总成(100),其中该轴之直径至多为3米(m)。如请求项1、2或3之轴密封总成(100),其中该转子构件(3,6)、定子构件(1)及密封构件(8)系藉由弹性体材料压制而成。一种使用如请求项1之轴密封总成静态及动态密封一轴之方法,其特征为:由一压力差支持该静态密封,该压力差以轴向方向呈现在该轴之两侧上之媒质之间,推动一配置在该转子构件(3)中之第一密封构件(8)抵靠着该定子构件(1)之一大体上径向定向之表面、罩着该密封构件(8)之凹槽(7)之一大体上径向定向表面(42)及该凹槽(7)之一大体上轴向定向表面(43),及在该轴(10)旋转时轴向及径向离心地移动该静态密封构件(8)远离其静态密封位置。如请求项21之方法,其特征为在该轴(10)旋转时该静态密封构件(8)轴向及径向远离其静态密封位置之离心地移动可消除在动态密封期间该密封构件(8)及该定子(1)之间的摩擦。如请求项22之方法,其特征为由一动态转子压力差实现该动态密封,该压力差由该转子构件(3,6)之一涡轮机效应引起,及由该动态转子压力差补偿以轴向方向呈现在该轴之两侧上媒质之间的该差异压力,藉此在动态运行期间保持密封。
地址 瑞典