发明名称 |
形成有以锡作为主成分的被膜的构件、被膜形成方法以及锡焊处理方法 |
摘要 |
本发明提供一种构件,该构件具有可以抑制晶须发生的被膜。在基材(1)表面上形成有被膜(3),所述被膜(3)含有由锡或锡合金构成的多个晶粒(3a)。在被膜的晶粒边界形成有锡与第一金属的金属间化合物(3b)。 |
申请公布号 |
CN101203627B |
申请公布日期 |
2010.09.08 |
申请号 |
CN200580050152.1 |
申请日期 |
2005.06.17 |
申请人 |
富士通株式会社 |
发明人 |
作山诚树 |
分类号 |
C23C26/00(2006.01)I;B32B15/01(2006.01)I;C25D5/12(2006.01)I;C25D5/50(2006.01)I;C25D7/00(2006.01)I;H01R13/03(2006.01)I |
主分类号 |
C23C26/00(2006.01)I |
代理机构 |
隆天国际知识产权代理有限公司 72003 |
代理人 |
张龙哺 |
主权项 |
一种构件,该构件具有:基材;被膜,所述被膜设置在上述基材的表面上,且包括由锡或锡合金构成的多个晶粒,在晶粒边界形成有锡与第一金属的金属间化合物;基底层,所述基底层设置在上述基材和上述被膜之间,并含有上述第一金属,而且,所述第一金属为镍、金、铜、银或钯,形成于上述被膜的晶粒边界的金属间化合物为薄片状,所述金属间化合物中含有与锡形成固溶体的元素并形成有固溶体,所述与锡形成固溶体的元素为选自由金、铋、锑、铟、锌、铅以及铝组成的群中的至少一种金属。 |
地址 |
日本神奈川县 |