| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft somit ein Schichtsystem (1) zur Bildung einer Oberflächenschicht auf einer Oberfläche eines Substrats (100), insbesondere auf der Oberfläche eines Werkzeugs, insbesondere auf der Oberfläche eines Umformwerkzeugs, wobei das Schichtsystem mindestens eine erste Oberflächenschicht der Zusammensetzung (VaMebMcXd)a(NuCvOw)ß umfasst, mit (a+b+c+d) = a, a = 100%, bezogen auf die in der Schicht vorhandenen Atome N,C,O mit der Summe aller Atome in der Schicht (a+ß) =100 at%, wobei 40 = a = 80 at% gilt, und wobei Meb mindestens ein Element aus der Gruppe der chemischen Elemente bestehend aus Zr, Hf, Nb, Ta, Mo, W, Ni, Cu, Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm des Periodensystems der chemischen Elemente ist und Mc mindestens ein Element aus der Gruppe der chemischen Elemente bestehend aus Ti, Cr ist, und Xd mindestens ein Element aus der Gruppe der chemischen Elemente bestehend aus S, Se, Si, B des Periodensystems der Elemente ist, wobei 0 = u = 100 ist, 0 = v = 100 und 0 = w = 80 ist. Erfindungsgemäss ist 50 = a = 99, 1 = b = 50, 0 = c = 50 und 0 = d = 20.</p> |
