| 发明名称 |
Mikrostrukturbauelement mit einer Metallisierungsstruktur mit selbstjustierten Luftspalten und wieder aufgefüllten Luftspaltausschließungszonen |
| 摘要 |
<p>In einem komplexen Metallisierungssystem werden selbstjustierte Luftspalte in lokal selektiver Weise vorgesehen, indem ein strahlungsempfindliches Material zum Füllen von Aussparungen oder zur Herstellung von Metallgebieten verwendet wird. Folglich kann durch das selektive Bestrahlen des strahlungsempfindlichen Materials ein selektiver Abtrag von bestrahlten oder nicht bestrahlten Bereichen erfolgen, woraus sich ein effizienter Gesamtfertigungsablauf ergibt.</p> |
| 申请公布号 |
DE102009010845(A1) |
申请公布日期 |
2010.09.02 |
| 申请号 |
DE20091010845 |
申请日期 |
2009.02.27 |
| 申请人 |
ADVANCED MICRO DEVICES INC.;AMD FAB 36 LIMITED LIABILITY COMPANY & CO. KG |
发明人 |
SEIDEL, ROBERT;WERNER, THOMAS |
| 分类号 |
H01L21/768;H01L21/764;H01L23/52 |
主分类号 |
H01L21/768 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
