发明名称 衬底处理装置
摘要 本发明提供一种衬底处理装置,能够抑制处理气体向衬底没有层叠的区域的流入,促进处理气体向衬底层叠区域的供给。衬底处理装置具有:收纳以水平姿态多层层叠的衬底并对衬底进行处理的处理室;以沿处理室的内壁的方式在衬底的层叠方向上延伸并向处理室内供给处理气体的一根以上的处理气体供给喷嘴;以沿处理室的内壁的方式在衬底的层叠方向上延伸并沿衬底的圆周方向从两侧夹着处理气体供给喷嘴地设置的、向处理室内供给惰性气体的一对惰性气体供给喷嘴;对处理室内进行排气的排气管线,一对惰性气体供给喷嘴分别在与衬底层叠区域相对的位置上及与所述衬底没有层叠的区域相对的位置上具有各一处以上的惰性气体喷出口。
申请公布号 CN101819920A 申请公布日期 2010.09.01
申请号 CN201010123911.5 申请日期 2010.02.26
申请人 株式会社日立国际电气 发明人 冈田格
分类号 H01L21/00(2006.01)I 主分类号 H01L21/00(2006.01)I
代理机构 北京市金杜律师事务所 11256 代理人 陈伟
主权项 一种衬底处理装置,其特征在于,具有:收纳以水平姿态多层层叠的衬底并对所述衬底进行处理的处理室;向所述处理室内供给处理气体的处理气体供给单元;向所述处理室内供给惰性气体的惰性气体供给单元;对所述处理室内进行排气的排气单元,所述处理气体供给单元具有以沿所述处理室的内壁的方式在所述衬底的层叠方向上延伸并向所述处理室内供给处理气体的处理气体供给喷嘴,所述惰性气体供给单元具有向所述处理室内供给惰性气体的惰性气体供给喷嘴,该惰性气体供给喷嘴以沿所述处理室的内壁的方式在所述衬底的层叠方向上延伸并沿所述衬底的圆周方向从两侧夹着所述处理气体供给喷嘴,所述惰性气体供给喷嘴分别具有向所述衬底层叠的区域开口的一个以上的第一惰性气体喷出口及向所述衬底没有层叠的区域开口的一个以上的第二惰性气体喷出口。
地址 日本东京都