一种用于光刻机的浸没自适应旋转密封装置

摘要

本发明公开了一种用于光刻机的浸没自适应旋转密封装置。浸没自适应旋转密封装置是在投影透镜组和衬底之间设置的装置，由内腔体、旋转构件、旋转激励结构和永磁板组成。旋转构件上开设多组螺旋进气槽，通过旋转构件的旋转运动从进气槽吸入外界气体，并流场边界形成柱状气幕，阻止液体向外泄漏。衬底高速运动工况下，旋转的气幕有助于将后退接触角处多余的液体，快速的导引到前进接触角位置，通过补偿获得相对稳定的边界流场。当液体由于衬底牵拉较大而进入进气槽时，旋转构件的运动将迫使进入进气槽的液体形成对边界流场的向内回流冲击，从而抵消液体的向外泄漏的动力，且伴随着液体向外冲击力的增大，抵消力也随之增大。

主权项

一种用于光刻机的浸没自适应旋转密封装置，在投影透镜组(1)和衬底(3)之间设置的浸没自适应旋转密封装置(2)；其特征在于，所述的浸没自适应旋转密封装置(2)：包括内腔体(2A)、旋转构件(2B)、旋转激励结构(2C)和永磁板(2D)，其中：1)内腔体(2A)：内腔体(2A)垂直于衬底(3)，由中心向外依次开有柱状曝光腔(4A)、环形柱状的注液腔(4B)和回收槽(4D)；回收槽(4D)下表面开有柱状回收孔阵列(4E)，注液腔(4B)和回收孔阵列(4E)之间下表面开有中心对称的12～72组螺旋柱状导流槽(4C)，导流槽(4C)深度为0.1～1.5mm；2)旋转构件(2B)：从上到下依次设有中心对称的：2～6组电磁铁(5A)，环状且具有隔磁性能的旋转主件(5B)和带有磁性的永磁导气板(5C)；旋转主件(5B)底部开有中心对称的24～120组螺旋状的进气槽(6A)，在垂直衬底(3)的截面一侧上，永磁导气板(5C)的截面为三角形；截面三角形靠近旋转构件(2B)的一边，该边远离中心的顶点高于靠近中心的顶点0.1～5mm；电磁铁(5A)内斜嵌于旋转主件(5B)的上表面，永磁导气板(5C)紧固在旋转主件(5B)的下表面；3)旋转激励结构(2C)：为环状结构，中心对称的分布3～8组的线圈(7)，线圈(7)设置在电磁铁(5A)外围；4)永磁板(2D)：中空环形柱状结构，放置于永磁导气板(5C)及衬底(3)的正下方；所述的旋转构件(2B)通过滚动部件(5D)与内腔体(2A)的外壁面接触，旋转激励结构(2C)通过紧固件连接在内腔体(2A)的上表面。