发明名称 一种在线检测硅纳米晶形态的方法
摘要 本发明公开了一种在线检测硅纳米晶形态的方法,包括:准备若干片硅片作为衬底,在该各衬底表面分别生长一隧穿介质层;用稀释氢氟酸处理衬底表面,再在该各衬底表面分别生长一层硅纳米晶;利用波长为365nm的单色光作为入射光入射至各衬底表面,由于表面材料和形貌的不同,反射光强必然会发生变化,记录各种生长时间的纳米晶硅片的反射率,建立生长时间与反射率之间的关系式;将以上各种硅片用扫描电镜和透射电镜进行破片分析,确定不同生长时间纳米晶的形态,建立不同纳米晶形态与生长时间的关系式;将纳米晶不同形态与反射率对应起来,建立相应的关系式,从而根据反射率来确定生长的纳米晶形态。利用本发明,实现了对硅纳米晶形态的在线快速检测。
申请公布号 CN101813624A 申请公布日期 2010.08.25
申请号 CN200910078556.1 申请日期 2009.02.25
申请人 中国科学院微电子研究所 发明人 刘明;王永;王琴;杨潇楠
分类号 G01N21/55(2006.01)I 主分类号 G01N21/55(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 周国城
主权项 一种在线检测硅纳米晶形态的方法,其特征在于,该方法包括:步骤1:准备若干片硅片作为衬底,在该各衬底表面分别生长一隧穿介质层;步骤2:用稀释氢氟酸处理衬底表面,再用LPCVD的方法在该各衬底表面分别生长一层硅纳米晶;步骤3:利用波长为365nm的单色光作为入射光入射至各衬底表面,由于表面材料和形貌的不同,反射光强必然会发生变化,记录各种生长时间的纳米晶硅片的反射率,建立生长时间与反射率之间的关系式;步骤4:将以上各种硅片用扫描电镜和透射电镜进行破片分析,确定不同生长时间纳米晶的形态,建立不同纳米晶形态与生长时间的关系式;步骤5:将纳米晶不同形态与反射率对应起来,建立相应的关系式,从而根据反射率来确定生长的纳米晶形态。
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