发明名称 接触式发光结构及其投影简报系统
摘要 一种接触式发光结构及其投影简报系统,系应用在投影技术上,该接触式发光结构可发出一光源,藉由一光感应装置感测该接触式发光结构之移动,因而使该投影面上出现对应于该接触式发光结构书写的标示或文字,以供使用者清楚表达并且加强解释投影面上的内容意义,该接触式发光结构藉由一适当间隙及一物理相斥力结构相互作用,该接触式发光结构受一外力挤压而使彼此接近并接触,藉此导通连接在两导电部,使一发光元件发光,具有触发力道较小的优点,并且藉由一模组定位座改善书写时侧向力不良的问题。
申请公布号 TWM387305 申请公布日期 2010.08.21
申请号 TW099204669 申请日期 2010.03.17
申请人 光峰科技股份有限公司 新竹市力行六路1号4楼 发明人 马健峰
分类号 主分类号
代理机构 代理人 黄志扬 台北市中山区长安东路1段23号10楼之1
主权项 1.一种接触式发光结构,包括有:一第一接触模组,其具有一发光元件、一与该发光元件连接之第一导电部以及一与该第一导电部连接的第一固接部,该第一固接部之端缘具有一抵止部;一覆盖该发光元件之外盖,该外盖受一外力推动使该第一接触模组做相对位移;一第二接触模组,其具有一第二导电部,以及一第二固接部;一承接该第一接触模组与该第二接触模组的模组定位座,该模组定位座具有一供该第一固接部滑动位移之滑槽,以及一供该抵止部定位之定位部,该定位部上具有一倒角;以及一与该模组定位座连接之壳体,该壳体具有一提供该发光元件之电力来源之电池部,该第二接触模组容置于该壳体内。 ;2.如申请专利范围第1项所述之接触式发光结构,其中该第一接触模组与该第二接触模组分别具有一第一磁铁及一第二磁铁,而该第一磁铁与该第一导电部连接,该第二磁铁与该第二导电部连接。 ;3.如申请专利范围第2项所述之接触式发光结构,其中该第一磁铁与该第二磁铁相对之面具有互斥之极性。 ;4.如申请专利范围第1项所述之接触式发光结构,其中该第一接触模组与该第二接触模组之间设置有一弹性体。 ;5.如申请专利范围第1项所述之接触式发光结构,其中该发光元件系为至少一个发光二极体,该发光二极体为一发射红外线波长之光源。 ;6.如申请专利范围第1项所述之接触式发光结构,其中该定位部将该第一接触模组分为一光源侧及一接触侧,且该光源侧长度大于该接触侧长度。 ;7.一种投影简报系统,包括有:一产生一影像内容之电脑;一与该电脑电性连接之投影装置,该投影装置用以将该影像内容投影至一屏幕;一撷取该屏幕上之投影内容的影像撷取装置,该影像撷取装置固定设置在该投影装置上,并且与该电脑电性连接;及一接触式发光结构,该接触式发光结构包含有一第一接触模组、一外盖、一第二接触模组、一模组定位座及一壳体,该第一接触模组具有一发光元件、一与该发光元件连接之第一导电部以及一与该第一导电部连接的第一固接部,该第一固接部之端缘具有一抵止部;该外盖覆盖于该发光元件上,该外盖受一外力推动使该第一接触模组做相对位移;该第二接触模组具有一第二导电部,以及一第二固接部;该模组定位座承接该第一接触模组与该第二接触模组,且该模组定位座具有一供该第一固接部滑动位移之滑槽,以及一供该抵止部定位之定位部,该定位部上具有一避免倾斜时与该第一接触模组发生干涉的倒角;该壳体与该模组定位座连接,该壳体具有一提供该发光元件之电力来源之电池部,且该第二接触模组容置于该壳体内。 ;8.如申请专利范围第7项所述之投影简报系统,其中该第一接触模组与该第二接触模组分别具有一第一磁铁及一第二磁铁,而该第一磁铁与该第一导电部连接,该第二磁铁与该第二导电部连接,且该第一磁铁与该第二磁铁相对之面具有互斥之极性。 ;9.如申请专利范围第7项所述之投影简报系统,其中该第一接触模组与该第二接触模组之间设置有一弹性体。 ;10.如申请专利范围第7项所述之投影简报系统,其中该发光元件系为至少一发光二极体,该至少一发光二极体用以发射红外线波长之光源。 ;11.如申请专利范围第7项所述之投影简报系统,其中该定位部将该第一接触模组分为一光源侧及一接触侧,且该光源侧长度大于该接触侧长度。;图1,系本新型一较佳实施例之立体剖面分解示意图。;图2,系本新型一较佳实施例之未发光作动示意图。;图3,系本新型一较佳实施例之发光作动示意图。;图4,系本新型另一较佳实施例之组合剖面示意图。;图5,系本新型一较佳实施例之使用状态示意图。;图6,系本新型一较佳实施例之投影简报系统示意图。
地址 新竹市力行六路1号4楼